山東聯(lián)盛電子設(shè)備有限公司成立于2014年 5月， 生產(chǎn)基地位于山東省高唐 高新技術(shù)開發(fā)區(qū)，研發(fā)基地位于江蘇省無錫市錫山科創(chuàng)園，公司致力于半導(dǎo)體高端濕制程設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)與銷售。

  公司目前已申請國家專利30多項，其中發(fā)明專利10項，是國家高新技術(shù)企業(yè) ，省級專精特新企業(yè)，公司于2016年申請并通過1S09001質(zhì)量體系認(rèn)證，半導(dǎo)體SEMI-S2專業(yè)認(rèn)證。并于2020年、2022年分別和山東大學(xué)微電子學(xué)院，青島大學(xué)電子信息工程學(xué)院建立產(chǎn)學(xué)研合作，同時總經(jīng)理馬玉水被青島大學(xué)聘為創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)導(dǎo)師。

  我們產(chǎn)品服務(wù)的領(lǐng)域包括硅材料、化合物半導(dǎo)體材料等，主要設(shè)備有:全自動RCA清洗機、全自動鍍鎳鍍金清洗機、全自動最終清洗機、全自動腐蝕減薄清洗機、全自動去邊清洗機、全自動溝槽蝕刻機、全自動二氧化硅蝕刻、爐管清洗機、CVD前清洗機、CDS(SDS)系統(tǒng)、BClean、0xideRemove、Nitride Remove、PR Strip,lift off、ParticleRemove, Solvent Clean、 MetalEtch， M2 Clean。